真空濺鍍

本公司有各式高真空設備,真空濺鍍,金屬.非金屬.導電.非導電.EMI.ITO薄膜
PVD真空離子鍍膜.TiN.TiCN.CrN.TiAln
真空蒸發鍍膜應用於3C電子產業的表面處理
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本公司成立於1988年專業從事各種真空設備製造及設計研發近年來更致力

真空磁控濺鍍設備及真空離子濺鍍機之研發製造以期使真空鍍膜產業能夠更

上層樓自行設計製造電弧蒸發電源功應器磁控濺射靶及相關電源的使用直流

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