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Halocarbon 14 / Trifluoromethane

Application
Halocarbon 14 is combined with oxygen to etch polysilicon, silicon dioxide, silicon nitride, some metals and metal silicides. It can be combined with Halocarbon 116 (C2F6) or used alone to clean wafers and chambers.



Product Specification
Purity     99.999%
N2               5
O2               1
CO2            0.5
CO              0.5
H2O             1
SF6             1
OHC            1
HF               0.1
*Unit: ppm

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  1. 統一編號28877776
  2. 聯絡人陳先生
  3. 更多元佳宇有限公司資訊
網頁更新日:
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