電漿去光阻機

更新時間:

產品內容

功能
快速去除晶圓上之殘留光阻,達到晶圓表面潔淨,蝕刻率同業最高

特色
‧處理均勻性佳
‧離子能量低、不損傷基板
‧沒有電極及基板的汙染
‧專利設計之特殊電漿電極
‧高密度電漿源
    ˇ電漿效率高、清潔效率高
     ˇ可控制低的離子能量
     ˇ結合化學反應性及物理撞擊性
‧處理速度快、清潔效率高、可靠度高
‧操作範圍廣
‧可使用多種製程氣體
‧設備穩定高,容易維護
‧可依客戶需求作更改

應用產業

殘餘光阻去除
藍膜殘膠去除
PSS 來料清潔製程
 

矽晶片雷射加工
免費註冊

公司資訊

  1. 統一編號12924133
  2. 聯絡人梁雅娟
  3. 更多馗鼎奈米科技股份有限公司資訊
網頁更新日:
https://www.seoweb66.com/web/QA?postID=309854Brush Papers

Brush Papers: Using 25 micron of metallized brus

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