分散穩定性分析儀

1. 採用專利多重光散射技術，可直接測量樣品雷射光源穿透度及背向散射光相對強度，描述出分散體系變化的真實狀態。
2. 樣品不須稀釋，可直接分析樣品分散穩定性及經時變化狀態。
3. 可測量粒徑範圍：0.05~1,000μm。
4. 可測量濃度最高達95% V/Vo。
5. 可直接觀察樣品分散現象，如凝結(Creaming)、沈降(Sedimentation)、聚集(Flocculation)、絮凝(Coalescence)、 相分離(Phase Separation)等變化，比目視觀測快200倍以上。複捲機